تاریخ انتشار : شنبه ۲ مرداد ۱۴۰۰ ساعت ۱۲:۱۱
 

حذف آلاینده هوا تحت تابش نور مرئی بدون تولید محصول جانبی مضر توسط محققان ایرانی

Share/Save/Bookmark
 
پایگاه تحلیلی خبری هم اندیشی:  محققان دانشگاه صنعتی امیرکبیر موفق شدند طی اجرای پروژه‌ای در مقطع کارشناسی ارشد، آلاینده‌های NO و NO۲ را با سنتز ماده‌ای فتوکاتالیستی تحت شرایط محیطی و بدون تولید محصول جانبی مضر از بین ببرند.

مهندس مرضیه مدرس دانش آموخته مقطع کارشناسی ارشد رشته مهندسی شیمی گرایش محیط زیست دانشگاه صنعتی امیرکبیر و محقق طرح « سنتز پوشش های فتوکاتالیستی مناسب جهت حذف آلاینده های NOx » گفت: در این تحقیق نانو ترکیبات ZnO اصلاح شده با CdS با روش سنتز شیمیایی مرطوب با موفقیت سنتز شد و به صورت یک فیلم پوششی روی سطح به منظور حذف  NOx تحت تابش نور مرئی مورد بررسی قرار گرفت. 

وی با اشاره به هدف از اجرای این طرح گفت: هدف از انجام این طرح استفاده از یک فتوکاتالیستِ فعال در محیط نور مرئی بوده است که به منظور حذف آلاینده NOx از هوا مورد استفاده قرار گرفت. با توجه به اهمیت حذف NOx از هوا، سنتز پوشش¬های فتوکاتالیستی در محیط¬های باز شهری در مقیاس آزمایشگاهی و حتی پایلوت مورد توجه قرار گرفته است. 

محقق دانشگاه صنعتی امیرکبیر با بیان اینکه استفاده از این روش در پروژه¬های تحقیقاتی در منابع بین المللی رو به گسترش است و به نتایج قابل قبولی دست یافته¬اند، افزود: در این پروژه برای نخستین بار از نانو ذرات CdS به عنوان اصلاح کننده فتوکاتالیست ZnO  به منظور افزایش لبه جذب آن در نور مرئی و حذف آلاینده های NOx از هوا استفاده شده است.  

وی با اشاره به نوآوری این طرح گفت: روش استفاده از این تکنولوژی به این صورت است که پس از سنتز فتوکاتالیست مورد نظر، این نانوفتوکاتالیست با رنگ ساختمانی مخلوط می‌شود و به صورت یک پوشش در ساختمان¬ها قابل استفاده است. از آنجا که این فتوکاتالیست توانایی جذب نور مرئی را دارد، تحت تابش نور مرئی ( ۴۵ درصد نور خورشید) فعال شده و آلاینده NOx را حذف می¬کند. 

ش
کد مطلب: 429274
مرجع : فارس